igbt模块的原理

2022-05-16


N沟型的igbt模块运行是经过栅极-发射极间加阀值电压VTH以上的(正)电压,在栅极电极正下方的p层上形成反型层(沟道),开始从发射极电极下的n-层注入电子。

该电子为p+n-p晶体管的少数载流子,从集电极衬底p+层开始流入空穴,进行电导率调制(双极运行),因此可以降低集电极-发射极间饱和电压。

运行时的等效线路如下图1(b)所显示,igbt模块的符号如下图1(c)所显示。在发射极电极侧形成n+pn-寄生晶体管。若n+pn-寄生晶体管运行,又成为p+n-pn+晶闸管模块。

电流继续流动,直到输出侧停止供应电流。经过输出信号已无法进行控制。通常将这类状态称之为闭锁状态。

为了能抑制n+pn-寄生晶体管的运行igbt模块选用尽可能缩小p+n-p晶体管的电流放大系数α用作解决闭锁的措施。具体地而言,p+n-p的电流放大系数α设计为0.5之下。igbt模块的闭锁电流IL为额定电流(直流)的3倍以上。igbt模块的驱动原理与电力MOSFET基本相同,通断由栅射极电压uGE决定。

(1)导通

igbt模块硅片的构造与功率MOSFET的构造非常相近,主要差异是igbt模块增加了P+基片和1个N+缓冲层(NPT-非穿通-igbt模块技术没有增加这一部分),当中1个MOSFET驱动2个双极元器件。

基片的应用在管体的P+和N+区间建立了1个J1结。当正栅偏压使栅极下面反演P基区时,1个N沟道形成,同时出现1个电子流,并完全按照功率MOSFET的方式产生一股电流。

倘若这一电子流产生的电压在0.7V范围内,那,J1将处在正方向偏压,一些空穴注入N-区内,并调整阴阳极间的电阻率,这类方式降低了功率导通的总损耗,并启动了第2个电荷流。

最终的结果是,在半导体层次内临时出现2种不同的电流拓扑:1个电子流(MOSFET电流);空穴电流(双极)。uGE大过开启电压UGE(th)时,MOSFET内形成沟道,为晶体管供应基极电流,igbt模块导通。

(2)导通压降:电导调制效应使电阻RN减少,使通态压降小。

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